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等离子除胶机针对PTFE材料的活性处理

点击次数:69 发布时间:2021-03-10
   等离子除胶机具有表面清洗、增加附着力的功效。无需溶剂.更加环保,无VOC,提高合格品率及生产效率。等离子去胶机去除光刻胶就是使用氧气等离子体对光刻胶层进行灰化,反应后生成CO2和H2O,随即被抽走。硅片未处理前,表面有大量的残余光刻胶;经过等离子除胶机处理后,表面的光刻胶都被去除,效果非常好。此方法去胶的优点是去胶操作简单、去胶效率高、表面干净光洁、无划痕、成本低、环保。
  等离子除胶机使用性能出色的组件和软件,可对工艺参数进行准确控制,它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、生物器件、LED等领域。
  等离子除胶机针对PTFE材料的活性处理:
  PTFE聚四氟乙烯材料是非极性的线性结晶聚合物,但其表面自由能很低而几乎无法与其他材料粘附是其缺点之一。为扩大应用范围,对PTFE材料表面改性的研究成为热点领域,如化学处理法,高温熔融法,等离子体表面处理技术,等离子体聚合等。采用等离子除胶机对PTFE样品进行等离子体处理,研究PTFE材料经过等离子表面处理后与双面胶粘结性的变化。
  得出的结论:
  1.处理前:双面胶和特氟龙的粘结力很弱,手剥离很轻松。
  2.处理后:等离子处理2min时,粘结力相对于有所增强,但手剥离会出现断裂;等离子处理4min时,粘结力明显增强,手剥离明显很难剥开;等离子处理5min时,手剥离几乎难以剥离。
  经过等离子除胶机处理后,PTFE的表面粘附力有很大的改善,这为PTFE的应用提供了更多的可能。
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